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等離子清洗機(jī)工藝氣體流量(壓力)設(shè)置說(shuō)明

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2022-12-05
等離子清洗采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。一般等離子清洗機(jī)可以通過(guò)調(diào)節(jié)氣體流量、處理時(shí)間、RF功率來(lái)控制處理效果。今天我們主要談下氣體流量(壓力)對(duì)等離子清洗效果的影響,來(lái)幫助大家理解該如何設(shè)置等離子清洗工藝氣體流量。
等離子清洗機(jī)
NAEN-PLASMA

 
首先我們來(lái)了解一下等離子清洗機(jī)的的倉(cāng)體壓力這個(gè)概念

倉(cāng)體壓力反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)的壓力是工藝氣體流量、腔體泄露率和真空泵抽速的動(dòng)態(tài)平衡。

接下來(lái)我們一起了解下等離子清洗壓力的變化主要影響哪些方面?

物理等離子清洗工藝模式采用的倉(cāng)體壓力較小。物理等離子清洗工藝要求被激發(fā)的離子轟擊工件表面。假如倉(cāng)體壓力過(guò)高,激發(fā)的離子在到達(dá)工件清洗表面之前就和其他離子產(chǎn)生多次碰撞,減低清潔效果。已激發(fā)的離子在碰撞之前所行進(jìn)的距離稱為離子的平均自由路程,與倉(cāng)體壓力成反比。物理等離子清洗工藝要求低壓以便于平均自由路程最大化,使碰撞轟擊達(dá)到最大。但假如倉(cāng)體壓力下降太多,就沒(méi)有足夠的活性離子在有效的時(shí)間內(nèi)來(lái)清潔工件?;瘜W(xué)等離子清洗工藝產(chǎn)生的等離子體與工件表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),所以離子數(shù)越多越能增加清洗的能力,導(dǎo)致需要使用較高的倉(cāng)體壓力。

通過(guò)對(duì)艙體壓力的了解,接下來(lái)就可以更直觀的了解工藝氣體流量對(duì)于等離子清洗效果的影響。

工藝氣體流量
流量的大小直接導(dǎo)致了形成離子體量的多少,形成了離子體越多,作用于工件表面的反應(yīng)越強(qiáng)烈,進(jìn)而清洗效果也可能會(huì)越好,但需與射頻功率協(xié)調(diào)作用。工藝氣體流量同時(shí)也是影響艙體壓力的一個(gè)重要因素,氣體流量加大后,腔室的真空度降低。流量越大意味著離子越多,但是同時(shí)碰撞也會(huì)更多,清洗效果反而也可能會(huì)更差。

以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于等離子清洗機(jī)氣體流量的一些說(shuō)明,希望通過(guò)以上講解能夠讓大家對(duì)于等離子清洗氣體流量該如何設(shè)置有一定的幫助。綜上所述:等離子清洗流量的選擇要根據(jù)清洗的基片進(jìn)行合理選用,當(dāng)以物理作用為主時(shí)應(yīng)減小氣體流量以增大離子能量,當(dāng)以化學(xué)作用為主時(shí)要增大一些氣體流量,保證反應(yīng)氣體濃度。

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