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低頻放電

低頻放電的頻率一般在50～500KHz，其原理是在電極間利用低頻電場激發(fā)產(chǎn)生等離子體，這種方式在材料表面改性中大量應用。低頻放電由于交流電場作用，其放電電壓遠低于直流放電，并且隨著頻率的提高放電電壓和維持電壓降低，低頻放電的放電模式與頻率相關，頻率較低時，和直流輝光放電類似，此時電子和離子移動距離短，電離度低；當頻率提高到一定數(shù)值，電子和離子在電極間振蕩運動，移動行程增大，與氣體分子發(fā)生碰撞的機率增大，電離度提高。目前市面所售的等離子清洗設備有低頻放電方式，頻率為40KHz，低頻放電符合輝光放電的特性，與射頻放電相比，電流很小，不存在阻抗匹配的問題，結構簡單，多為電容耦合結構，因此電極的二次污染問題仍然存在。